double（ダブル）というテーマで募集された新宿ファッションフィールド2020
応募総数2，159点のデザイン画の中から、20点が選出され、文化服装学院からは１名が最終審査に臨みました。新宿文化センターで行われた最終審査の結果、１名が入選しました。

 


≪入選≫
又吉　祐　服飾研究科１年

▽新宿ファッションフィールド公式ウェブサイト
https://www.regasu-shinjuku.or.jp/bunka-center/fashion-field/23552/

▽新宿ファッションフィールfacebook
https://ja-jp.facebook.com/ShinjukuFashionField

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